主 講 人：陳寶欽

地　　點：物理與信息工程學(xué)院南樓111報告廳

主 辦 方：物理與信息工程學(xué)院

開始時間：2017-05-16 10:10

講座介紹：

    題目：微光刻與電子束光刻技術(shù)

    1.微光刻技術(shù)的發(fā)展歷程，光學(xué)光刻技術(shù)，光學(xué)光刻分辨率增強技術(shù)，光學(xué)光刻如何一次又一次突破光刻分辨率極限，達到亞十納米尺度。

    2.電子束光刻極限在納米CMOS集成電路研制和微納米加工技術(shù)中的應(yīng)用，電子束光刻工藝技術(shù)，電子抗蝕劑工藝技術(shù)，微納加工數(shù)據(jù)處理技術(shù)。

    3.微電子技術(shù)的發(fā)展與展望，中國集成電路制造業(yè)的發(fā)展，摩爾定律什么時候失效的問題，深化摩爾、拓展摩爾和超越摩爾。

    4.和同學(xué)們交流談?wù)劊鹤鋈艘保鍪乱趭^，做學(xué)問要踏實；做好每一件簡單的事減少不簡單，做好每一件平凡的事減少不平凡；低下頭，從腳下最不起眼的路走起！

主講人介紹：

       陳寶欽，博士生導(dǎo)師，中科院微電子研究所研究員，兼職中國科學(xué)院大學(xué)教授；北京電子學(xué)會半導(dǎo)體專業(yè)委員會副主任、制版分會主任；全國半導(dǎo)體設(shè)備與材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會副主任、微光刻分委會秘書長；全國納米技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會微納加工技術(shù)工作組副秘書長；中國科學(xué)院老科技工作者協(xié)會理事、微電子分會理事長、科學(xué)講師團成員。多年來一直從事光掩模與先進掩模制造技術(shù)、電子束光刻技術(shù)、微光刻與微納米加工技術(shù)研究和開發(fā)工作。在參加和合作開展的各項科研活動中獲多項科技獎，分別于1979年至2013年間先后獲國家科技進步獎二等獎兩項和國家技術(shù)發(fā)明獎三等獎一項；航天科工集團、北京市和中國科學(xué)院科技進步獎一等獎五項、二等獎六項；2013-2016年度中國科學(xué)院教育教學(xué)成果獎特等獎。先后為《中國大百科全書》撰寫“掩模制作技術(shù)”；為《現(xiàn)代高技術(shù)叢書》撰寫“微細圖形加工技術(shù)”；并參加《世界最新集成電路》大型集成電路工具書編譯工作，任副主編；策劃并合作編寫《高等院校電子技術(shù)教材-TANNER集成電路設(shè)計教程》；為國家自然科學(xué)基金委組織科學(xué)出版社出版的《半導(dǎo)體科學(xué)技術(shù)》撰寫“微光刻與微納米加工技術(shù)”；為中國軍事百科全書撰寫“微電子學(xué)與納米電子學(xué)”；為中國科學(xué)院《高技術(shù)發(fā)展報告》撰寫“集成電路工藝與設(shè)計技術(shù)最新進展”；為《集成電路工業(yè)全書》撰寫“掩模制造設(shè)備”。受國家技術(shù)監(jiān)督局委托負責(zé)起草并制定十多項微光刻技術(shù)國家標(biāo)準(zhǔn)。發(fā)表或者合作發(fā)表論文有《中國光掩模制造與光刻技術(shù)現(xiàn)狀及發(fā)展趨勢》和《微光刻與微納米加工技術(shù)》等約100篇。